我們這裡討論的光源型別都有乙個相同點，就是，我們考量的都是光源上的乙個點，對於物體表面上乙個點的影響，也就是說立體角趨近為零的情況。
這裡光源分為兩類，一類是方向光，假設光源在無限遠處。另一類是點光源，假設光源的大小相對與光源和物體表面的距離可以忽略。
方向光在前面介紹過了，它的對物體的輻照度是不變的。現在來把點光源細分一下。
第一種點光源叫omni light，泛光體。它的特點是光源向各個方向的輻射強度或者光的強度都是一樣的。在計算其對物體表面輻照度影響的時候使用如下方程：
其中，pl是光源的位置，ps是物體表面的位置。可以看出，輻照度是隨著物體表面和光源距離的平方的增加而減少的。其中第三個方程就是物理中輻射強度和輻照度的計算公式，這裡的輻照度是和光線垂直的表面的輻照度，這也是很多光照計算中為什麼有距離平方的倒數這種變數的原因。實際計算中通常只來計算乙個系。由一種叫做衰減方程（falloff function）來代替上式中的分母，如下：
之所以使用乙個方程而不是使用r的平方，是為了更好的控制渲染的效果。同時，能夠處理一些極端的情況，比如，物體如果和光源的距離十分接近，以及十分遠的時候。一下三種方程都是衰減方程的實際形式。
第乙個方程是opengl和dx固定流水線實現的方程。第二個是在實時渲染中廣泛使用的方程，其中rs和re是自己設定的，便於控制效果。第三個方程是pixar在電影渲染中所使用的一種方程。對於第三種方程，rc是乙個常量，用來描述和光源距離相關的常量，讓r越接近光源時，整個方程越接近fmax，而當光源越來越遠離時，通過se來實現乙個更好對方程結果的控制，另外兩個常量k0＝ln（fc／fmax），k1 ＝ se／k0，這個方程來自barzel的一篇2023年的**。到此，泛光源就介紹完了。
第二中點光源叫做spot light ，聚光燈。它就是光照強度隨著方向的改變而改變的一種光源。其中一種變化形式是根據光源方向和光線方向（光源位置到物體表面的向量，這個在前面的介紹中，為了在光照方程中能更快速的計算出光線和法線的夾角，所以一直方向一直是從物體表面到光源位置的單位向量，這裡，我們要反過來）的夾角來衰減光照強度，例如一下方程，這個方程也是opengl固定流水線中使用方程，
通過上述方程計算出光照強度後，利用以上的方程7.12或者衰減方程來計算輻照度。但是在dx固定管線中提供的是如下方程，這個方程的特點是能夠模擬出本影（umbra）和半影（penumbar），其中引數的意思，一看就知道了，這裡不多說了，
就是把實現shadow map時的深度紋理替換成一張二維紋理，這樣計算畫素時，直接混合紋理和畫素已有顏色就可以了。
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