薄膜干涉：由薄膜的上，下表面反射（或者折射）的光相遇而產生干涉
它分為：等厚干涉和等傾干涉
等厚：厚度相同的地方形成同一級的干涉條紋
等傾：傾角相同的光形成同一級的干涉條紋
而兩種干涉型別的相位差形式是類似的：
其中,
條紋的性質：一般考慮條紋的級數序列，條紋的移動規律，相鄰條紋的間距等。以暗條紋為例（只考慮單色光）：
1.等傾干涉：
不變
級數序列：薄膜越厚，級數越高
移動規律：增加膜厚，級數變高——整體而言，相當於條紋向級數變小方向移動
條紋間距：看
的變化是否均勻線性，看具體的裝置而定
【牛頓環：明暗相間 內疏外密 的 圓環紋
鍥形平板:明暗相間 均勻分布 的 直條紋】
2.等厚干涉：
不變
級數序列：內高外低 【入射角
越大，級數越低】
條紋間距：內疏外密
設移動規律：級對應
, 級對應
：則 （等式左邊用泰勒級數展開：
）假設 與
的值相差很小，則：
如此便有：
（入射角度越大，條紋間距越密）
(1)追條紋法（
）（傾角變大，條紋向級數小的方向移動，對應由內向外移動)
(2)定點觀察法（
）：(級數變小，條紋向傾角變大的方向移動，對應由內向外移動)
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