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距離場陰影是基於一篇最近在經過 alpha 測試的放大功能（作者 valve software）上的**實現的。它的原理是使用到最近陰影過渡的距離代替標準的陰影因數儲存（0 代表陰影，1 代表沒有陰影)。然後為了在執行時重新構建陰影，只要簡單地縮放或偏移到想得到的半影尺寸的距離即可。這樣最大的好處是如果解析度降低，陰影過渡可以隨著距離場更溫和地下降。當直接地儲存陰影因數時，降低解析度將會導致斑駁和鋸齒陰影。當在使用距離場陰影時，降低解析度，陰影的過渡仍然是同樣的尖銳度，但是在陰影過渡的角落或高頻率拐角處會變得更加彎曲。在我們測試的關卡中，在主光源下的距離場陰影在 1/2 解析度(在每個維度)的情況下要比儲存陰影因數的方法在全解析度的情況下的陰影看上去更好，儘管距離場陰影使用記憶體的量僅是儲存因數方法產生陰影的 1/4。
有乙個弊端是僅可以重新建全亮到全黑的陰影過渡，所以植被的細節陰影在使用老的陰影產生方法看上去更好一些，並且不再儲存半影的尺寸（為了減少記憶體的使用量），所以在任何地方都使用同樣的半影尺寸。也不支援來自主光源的半透明陰影，並且預計算的環境遮擋不能影響來自主光源的直接光照。
具有變化的半影尺寸的距離場陰影。注意：實際上遷入的陰影有統一的半影尺寸來使記憶體使用量減半。這個是每個貼圖畫素佔 2 個位元組。
和上面的距離場陰影具有同樣解析度的陰影因數陰影。它是其它的可切換的光源使用的，每個貼圖畫素佔 1 個位元組。
在較高解析度下的陰影因數陰影，調整它的解析度來嘗試獲得和距離場陰影同樣的效果。解析度在每個維度上增加 2-4 倍，最終的光照貼圖記憶體消耗大約比每個貼圖畫素佔兩個位元組的距離場陰影高 3.7 倍。
距離場陰影。
和上面的距離場陰影具有同樣解析度的陰影因數陰影。
在較高解析度下的陰影因數陰影，調整它的解析度來嘗試獲得和距離場陰影同樣的效果。
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