座標斷點在opticstudio中的使用是非常靈活的。座標斷點可在不影響系統中其他光學元件的基礎上，被用來旋轉或偏心任何光學表面或光學元件。
本文中的正確/錯誤描述均基於傾斜的零件是否會影響後續元件為準。
本文中採取的傾斜方式均為透鏡前頂點為旋轉中心實現偏轉，選取的lens data如下所示，結構圖可見是由兩片玻璃膠合而成；可見在膠合鏡片後設定了一虛擬面，用以顯示膠合鏡片最後一面的區域性座標，判斷是否偏轉正確。
pickup解主要通過對座標斷點採用拾取還原方式實現透鏡元件傾斜；其設定如下所示：
主要設定方式為在透鏡前後各增加1座標斷點面（圖2、7面），同時後坐標斷點面偏心、傾斜引數拾取前座標端麵，拾取因子為-1，order設定為1（先傾斜後偏心）；
從結構圖中的區域性座標可以看出，在座標斷點之後的標準面的中心位置可見偏離原光軸，上述設定會導致後續元件的光軸與偏轉前的元件的光軸存在差異，導致結果不準確，具體偏移資料可見zemax分析中的詳細資料檢視，如下所示，偏離量約0.54mm。
zemax中對元件傾斜的正確設定方法如下所示：
可見在膠合元件最後一面厚度設定位置解（t解），將座標系返回至膠合前頂點，再重新增加厚度，具體結構及區域性座標如下所示，圖中高亮面為第6面，區域性座標系與膠合件前頂點重合。
第8面區域性座標係為第6面區域性座標系還原傾斜再水平前移透鏡厚度距離。具體偏移資料可以zemax分析中的詳細資料檢視，如下所示，由於傾斜設定導致的偏心為1.1×10e-16，基本可以忽略。
具體設定與2.2類似，主要不同點在於第二座標斷點面偏心和傾斜解採取主光線解，主要設定如下所示：
與pick up解主要不同為在於主光線是否與像面垂直，檢驗方法如下，,採用raid運算元檢查0視場主光線在像面的入射角，可見採用主光線解可以保證經傾斜元件作用的出射光線，角度與像面垂直。
但這種情況下，像面不會呈現豎直狀態，可能會有一點的夾角，具體可見。具體偏移資料可見zemax分析中的詳細資料檢視，如下所示，image面與全域性座標對比發現imge面存在傾角，角度約為-3.03°。
座標返回的設定方式在於選取具體的面，將其返回至在此之前某面具體面，設定如下：
在本例中，zemax的設定如下所示，具體設定為將6面的座標斷點面返回至2面座標位置處，再新增一虛擬面用於增加透鏡實際厚度。
從全域性座標圖可見，經r返回的image面座標只存在光軸方向偏移，無偏心和傾斜。
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